| 第六届“武汉．中国光谷”知识产权保护论坛２日在汉召开 |
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| 发布时间：2006年11月03日 来源于：国家知识产权局网站 |
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11月2日，第六届“武汉．中国光谷”知识产权保护论坛在湖北武汉东湖新技术开发区科技会展中心隆重召开。来自美国、日本的知识产权专家和国家知识产权局、国家保护知识产权工作领导小组办公室等单位的领导以“自主创新与知识产权国际保护”为主题，就企业关心的知识产权国际保护以及知识产权国际诉讼等问题展开深入讨论。国家知识产权局副局长张勤、国家保护知识产权工作领导小组办公室秘书长向欣、武汉市委常委、副市长袁善腊等有关领导出席会议并致辞。
张勤代表国家知识产权局在开幕式上致辞，他表示，自2001年以来，国家知识产权局和武汉市人民政府在国家级高新区——武汉东湖新技术开发区成功举办了五届“武汉．中国光谷”知识产权保护论坛，对我国高新技术企业加强知识产权保护、提高知识产权意识起到积极作用，在国内外也产生了一定的反响。
张勤指出，近年来，注重自主创新和知识产权国际保护越来越受到世界各国的重视。国际经验证明，一个国家要转变传统落后的增长方式，最根本的要靠增强自主创新能力。21世纪是知识经济时代，时下世界经济融为一体，企业的核心竞争力主要看这个企业是否拥有自主知识产权，从某种程度上说，未来的竞争就是知识产权的竞争。现阶段我们重视知识产权工作，绝不只是一个保护的问题，更重要的是通过保护，加快完善知识产权制度，熟练掌握和运用知识产权规则，提高自主知识产权的创造、实施、管理水平和能力，冲破发达国家对我们的封锁。
据介绍，本届论坛由国家知识产权局、武汉市人民政府主办，国家知识产权局协调管理司、武汉市保护知识产权工作领导小组办公室、武汉东湖新技术开发区管委会、武汉市知识产权局、武汉市质量技术监督局承办。本届论坛旨在切实提高我国高新技术企业国外市场竞争能力和知识产权国际保护水平，大力发展拥有自主知识产权的高新技术产业。本届论坛以“层次高、影响大、范围广”为特色，成为武汉国际光电子信息技术博览会暨论坛的一大亮点。
据悉，在本届论坛上，国家保护知识产权工作领导小组办公室秘书长向欣、美国法学博士脱颖、日本东北大学教授长平彰夫、美国康乃利律师事务所陆准、武汉市质量技术监督局副局长吴祥永等官员、专家先后登台，分别就加强知识产权保护，提高企业国际竞争能力；技术标准与自主创新；我国企业如何在国外取得知识产权保护；我国企业如何应对知识产权国际诉讼；国外跨国企业的知识产权战略；光电子信息产业国际知识产权保护现状和趋势等议题进行了深入浅出的阐述，并与在座的代表开展了积极的交流和探讨，他们的众多观点激起了近200名高新技术领域的优秀企业代表的共鸣。
据了解，第五届“中国光谷”国际光电子博览会吸引了400余名来自俄罗斯、美国等国家和地区的嘉宾，以及十余名国内外知名院士参会。展览规模超过历届任何一次。有韩国光谷之称的韩国“大德谷”，将首次来汉展示；今年适逢“中俄友好年”，俄罗斯光电企业也会大量参会。第六届“武汉．中国光谷”知识产权保护论坛安排在“光博会”期间召开，使人们在参加会议的同时，有机会了解到目前世界光电子产业的最新发展动向。（记者王佳、夏媛） | | |
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